干膜技术资料(ppt 85页)

一、 电路图形转移材料的演变
二、 干膜光致抗蚀的种类
三、 干膜光致抗蚀剂的结构、感光胶层的主要成分及作用
四、 什么是图像转移
五、 液体光抗蚀剂(湿膜)
六、 线路版厂对干膜的选用及 操作注意事项
七、 干膜的技术性能要求
八、 生产操作及注意事项

一、电路图形转移材料的演变
印制电路图形的转移所使用的原材料，自出现印制电路以来，原材料的研制与开发科学攻关工作从未停止过。从原始阶段设计采用抗蚀油漆或虫胶漆手工描绘简单的线路图形转移工艺技术的需要。但随着微电子技术的飞速发展，大规模集成电路和超大规模集成电路的广泛应用，要求印制电路板的制造技术，必须适应高密度、高精度、细导线、窄间距及小孔径电路图形转移需要。几十年来，研制与开发出新型的光致抗蚀剂与电路图形转移技术：如光致抗蚀干膜、湿法贴膜技术、电泳光致抗蚀膜和直接成像技术，都逐步地被制造印制电路板商家所采用，使电路图形的转移品质大幅度的提高。为叙述简便，就印制电路板制造过程中，所采用的电路图形转移原材料，按顺序加以简单论述：
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