培训系列之真空镀膜技术基础(PPT 227页)
主要内容
1. 真空镀膜概论
2. 真空蒸发镀膜
3. 真空溅射镀膜
4. 真空离子镀膜和离子束沉积技术
1.真空镀膜概论
1.1真空镀膜技术
1.2真空镀膜特点
1.3真空镀膜技术分类
1.4真空镀膜的应用
2.真空蒸发镀膜
2.1真空蒸发镀膜原理
真空蒸发镀膜原理图
蒸发镀膜成膜条件
2.2蒸发源
点蒸发源及点源对平面的蒸发
小平面蒸发源及小平面源对平行平面的蒸发
环形蒸发源——环形线蒸发源
环形蒸发源——环形平面蒸发源
环形蒸发源——环形柱面蒸发源
环形蒸发源——环形锥面蒸发源
基片与蒸发源的相对位置
2.3真空蒸发镀膜机
间歇式真空蒸发镀膜机
半连续式真空蒸发镀膜机
2.4特殊蒸发技术
蒸发镀膜工艺中应考虑的问题
3.真空溅射镀膜
3.1溅射镀膜
与溅射率有关的因素
溅射镀膜特点
3.2直流溅射镀膜
3.2.1直流二极溅射装置
3.2.2直流偏压溅射装置
3.2.3三极或四极溅射装置
3.3直流磁控溅射镀膜
直流磁控溅射镀膜特点
3.3.2磁控溅射靶
磁控溅射靶电流-电压特性
沉积速率
功率效率
3.3.3磁控溅射镀膜机
间歇式磁控溅射镀膜机
半连续式磁控溅射镀膜机
连续式磁控溅射镀膜机
3.4射频溅射镀膜
3.4.1射频溅射镀膜工作原理
3.4.2射频溅射镀膜装置
射频二极溅射装置
射频磁控溅射装置
射频溅射靶的结构
3.5反应溅射镀膜
3.5.1反应溅射的机理及特性
3.5.2反应溅射镀膜装置
间歇式反应溅射装置
半连续式反应溅射装置
3.6各磁控溅射靶的磁场
3.6.2圆形平面磁控溅射靶的磁场
3.6.3同轴圆柱形磁控溅射靶的磁场
3.6.4旋转式圆柱形磁控溅射靶的磁场
3.6.5S-枪溅射靶的磁场
4.真空离子镀膜和离子束沉积技术
4.1真空离子镀膜
离子镀的类型
4.1.1离子镀原理和成膜条件
离子镀原理
离子镀的成膜条件
4.1.2等离子体在离子镀膜中的作用
4.1.3离子镀膜工艺参数
离子镀工艺必须满足的基本条件
4.1.4离子镀膜装置
直流二极型离子镀装置
三极型或多极型离子镀装置
多阴极离子镀装置
ARE活性反应离子镀装置
空心阴极放电离子镀装置
4.2真空电弧离子镀膜
4.2.1弧光放电及真空电弧镀机理
4.2.2真空电弧镀蒸发源
4.3离子束辅助沉积技术
离子束辅助沉积机理
离子束辅助沉积技术分类
蒸发镀的离子束辅助沉积技术
溅射镀的离子束辅助沉积技术
低压反应离子镀的离子束辅助沉积技术
4.4离子束沉积技术
4.4.1离子束沉积技术机理
4.4.2离子束沉积技术的分类
质量分离式离子束沉积技术
团簇离子束沉积技术
气固两用离子束沉积技术
4.5分子束外延技术
分子束外延技术的特点
影响分子束外延的因素
分子束外延装置
4.6微波电子回旋共振等离子体增强溅射沉积
微波等离子体溅射沉积特性
第一章气相沉积技术概述
1.1气相沉积技术的定义
1.2气相沉积技术的分类
1.3气相沉积技术的特点
1.4气相沉积技术的应用
第二章化学气相沉积技术
2.1化学气相沉积定义
2.2化学气相沉积物理化学基础
2.2.1CVD反应方式
2.2.2CVD反应条件
2.2.3CVD反应过程
2.3化学气相沉积反应物质源
2.4CVD涂层质量影响因素
2.5化学气相沉积装置
负压CVD装置主要性能简要说明
CVD工艺技术分类
2.6高温化学气相沉积技术
2.6.1HT-CVD硬质涂层的分类
2.6.2HT-CVD的主要工艺参数
2.6.3HT-CVD对基体材料的要求
2.6.4HT-CVD技术一般工艺过程
2.7中温化学气相沉积技术
2.7.1MT-CVD反应机理
2.7.2含C/N有机化合物的选用
2.7.3主要工艺参数的影响
2.7.4MT-CVD工艺过程及设备
MT-CVD技术沉积工艺参数
第三章等离子体增强化学气相沉积技术
3.1PECVD的定义及分类
3.2PECVD的工艺过程
3.3PECVD的特点
3.4射频等离子体化学气相沉积技术
直流偏压式射频等离子体CVD装置
主要的工艺参数：
3.5直流等离子体辅助化学气相沉积技术
3.6脉冲直流等离子体CVD技术
主要工艺参数：
3.7激光化学气相沉积技术
激光CVD工艺的特点
激光CVD工艺的应用：
3.8金属有机化学气相沉积技术
MOCVD的应用：
3.9微波等离子体化学气相沉积技术
应用：
3.10分子束外延技术（MBE）
MBE的特点：
MBE装置的分类：
分子束外延工艺：
第四章气相沉积设备
CVD涂层设备系统主要技术指标
CVD涂层设备系统各部分功能及设计要求
自动控制程序流程图
第五章预处理主要辅助设备
5.1清洗
5.2刃口强化
5.2.2刃口强化工艺及设备
5.3喷砂
第六章膜层质量测试
6.1膜层宏观性能检测
2.膜层厚度测量
3.膜层附着力测试
4.膜层内应力测试
6.2膜层内在质量测试
1.显微组织形貌分析
2.膜层的晶体结构分析
3.膜层成分分析
第七章气相沉积技术应用领域
7.1在硬质涂层中的应用
新型硬质涂层的发展趋势
典型硬质涂层工具应用举例
非金属超硬涂层沉积技术
7.2在防护涂层中的应用
7.3在光学薄膜中的应用
7.4在建筑镀膜玻璃中的应用
7.5在太阳能利用领域中的应用
7.6在集成电路中的应用
7.7在信息显示器件中的应用
7.8在信心存储中的应用
7.9在装饰饰品中的应用
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