PECVD法沉积类金刚石膜探讨(pdf 8页)

PECVD法沉积类金刚石膜探讨内容提要：
以C2H2为碳源，Ar气为辅助气体，利用射频等离子体化学气相沉积的方法在载玻片和PET
膜上制各了类金刚石(diamond．1ike carbon，DLC)薄膜。利用红外光谱(FTIR)和视频光学接触角
测量仪(DSAl00)对类金刚石薄膜的结构、成分进行了细致的分析；利用原子力显微镜(AFM)
分析了薄膜的表面形貌；同时，透氧测试来研究薄膜的阻隔性能与薄膜的结构之间的关系。另外，
还利用摩擦磨损仪对薄膜的机械性能进行了研究。实验结果表明，PECVD制备的DLC薄膜比较致
密、均匀。有较好的耐磨性能。
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