CMOS制造工艺流程简介(PPT 37页)

2.1 CMOS制造工艺流程简介
Stages of IC Fabrication
两层互连布线的CMOS
2.3  N阱和P阱的形成
2.4  栅电极的制备
2.5  前端或延伸区(LDD)的形成
2.6  源漏区的形成
2.7  接触与局部互联的形成
2.8  多层金属互连的形成
作业：MEMS 器件制备
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