TFT-LCD阵列工艺介绍(PPT 38页)

一、TFT-LCD的基本构造
二、ARRAY工艺简介
三、阵列检查介绍
TFT-LCD阵列工艺介绍
主要内容
二、ARRAY工艺介绍
2.1阵列基板的构造和功能
2.2阵列基板的制造原理
2.3阵列基板的制造工艺流程
图6TFT器件的基本构造
当Vg≤Vth时
Ids=0
当Vg>Vth且Vds<Vg-Vth时
Ids=(W/L)•μC0{(Vg-Vth)Vds-Vds2/2}
当Vg>Vth且Vds>Vg-Vth时
Ids=(W/L)•μC0(Vg-Vth)2/2
式中，Vth:阈值电压
μ：电子迁移率
C0:单位面积栅绝缘层电容
2.2阵列基板的制造原理
反应气体在高频电场作用下发生等离子体（PLASMA）放电。
等离子体与基板发生作用将没有被光刻胶掩蔽的薄膜刻蚀掉。
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