光刻与刻蚀工艺培训课件(PPT 119页)

图形曝光与刻蚀
ULSI对光刻有哪些基本要求？
洁净室（1）
光刻原理（1）
光刻工艺过程
1、涂胶
可以开始涂胶了……
涂胶-----转速Vs膜厚
2、前烘（softbake）－－再次改善光刻胶粘附性
3、曝光（Exposure）
曝光后烘焙（PEB）
4、显影（Development）
5、坚膜—显影后必须进一步增强光刻胶粘附力
6、去胶
光刻机
曝光光源
光学曝光方法
套准精度
对准法则
光刻胶的基本属性
基本光刻技术
*实际工艺中正胶用的比较多，why?
光刻胶的主要成分
掩膜版
掩膜板的制造
分辨率增强技术－移相掩膜
什么叫刻蚀？
刻蚀术语
刻蚀
湿法刻蚀技术（1）
DRYETCHING干法刻蚀
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