TFTArray工艺技术概要(PPT 38页)

主要内容
一、 TFT的基本构造
工艺详细流程－D/I工程图解
工艺详细流程－C工程
工艺详细流程－PI工程
二、ARRAY工艺介绍
1-1、洗净
1-2、洗净方法及原理概述
2-1、Sputter
2-2、Sputter
2-3、Sputter设备
3-1、PCVD
4-1、PR/曝光
4-3、曝光
5-1、湿刻
5-2、湿刻设备概要
6-1、干刻
6-2、干刻原理
6-3、干刻装置
7-1、剥离
7-2、剥离
8、热退火
10、ARRAY工艺介绍—4Mask工艺PR后像素照片
11、ARRAY工艺介绍—工艺不良（PR）
三、4Mask与5Mask工艺对比
三、4Mask与5Mask工艺对比
四、 Array气液安全
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