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常用光学薄膜的基本设备原理和方法(PPT 35页)

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设备管理
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常用光学薄膜的基本设备原理和方法(PPT 35页)内容简介
光学镀膜系统的组成及其作用;
真空的获得和检测方法;
用热蒸发方法制造光学薄膜;
用溅射方法制造光学薄膜;
离子镀原理和方法。
教学目的和要求
了解常用光学薄膜的基本设备、原理和方法。
获得光学薄膜两种工艺:物理气相沉积和化学液相沉积(CLD)
物理气相沉积(PVD):在真空条件下,采用物理方法,
将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,
并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。
主要方法:真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜及分子束外延等。
特点:须在真空下进行,成本高,但膜厚可以精确控制,膜层强度好。

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常用光学薄膜的基本设备原理和方法(PPT 35页)