刻蚀培训讲义(PPT 47页)

主要内容
刻 蚀 培 训
生产线工艺流程
刻蚀的种类
什么是等离子体？
等离子体的应用
等离子体的产生
等离子体刻蚀原理
等离子体刻蚀反应
等离子体刻蚀工艺
什么是湿法刻蚀
HF/HNO3体系腐蚀机理
HF/HNO3体系腐蚀机理特点
HF/HNO3体系两区域腐蚀机理特点
HF/HNO3体系腐蚀液的选择
湿法刻蚀特点
Rena水平刻蚀清洗机1
Rena各部件功能介绍-1
Rena水平刻蚀清洗机2
Rena各部件功能介绍-2
Rena水平刻蚀清洗机各槽分布图
Rena各槽功能介绍
一、刻蚀槽
刻蚀槽溶液流向图
刻蚀槽液面
刻蚀槽硅片流入吸附刻蚀液原理
刻蚀槽前后硅片状态比较
Rinse 1
Alkaline rinse
碱槽溶液流向图（槽截面）
Rinse 2
HF bath
氢氟酸槽溶液流向图（槽截面）
Rinse 3
Dryer 2
湿法刻蚀相对等离子刻蚀的优点
湿法刻蚀相对等离子刻蚀的缺点
检验方法
检验原理
检验操作及判断

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