离子注入工程培训(ppt 40页)

离子注入工程培训目录：
一、什么是离子注入？
二、离子注入的优点
三、离子注入的局限性
四、离子注入系统
五、接上面的内容
六、离子注入机（NH-20S）结构图
七、离子注入系统的组成
八、离子源（ion source）
九、两种离子源对比
十、源磁
十一、磁分析器
十二、加速管(Acceleration tube)
十三、聚焦和扫描系统 (deflection and scanning )
十四、偏折板
十五、靶室和后台处理系统(Target Assembly)
十六、..............................

 

离子注入工程培训内容提要：
将某种元素的原子经离化变成带电的离子
在强电场中加速，获得较高的动能后，
射入材料表层（靶）
以改变这种材料表层的物理或化学性质
各种杂质浓度分布与注入浓度可通过控制掺杂 剂量(1011-1016cm-2)和能量(10-200KeV)来达到
横向分布非常均匀 如1%左右，扩散5％左右
表面浓度不受固溶度限制，可做到浅结低浓度 或深结高浓度
注入元素可以非常纯，杂质单一性
可用多种材料作掩膜(如金属、光刻胶、介质.)，可防止沾污，自由度大。
低温过程（因此可以用光刻胶作为掩膜），避免了高温过程引起的热扩散。（室温）
会产生缺陷，甚至非晶层，必须经高温退火加以改进
产量较小
设备复杂
有不安全因素(如高压、有毒气体等)

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