电子束光刻基本理论培训课件(PPT 54页)

利用某些高分子聚合物对电子束敏感形成曝光图形
光学曝光分辨率受光波长的限制
电子波长
电子束直写
——分辨率高、不需要Mask、曝光效率低
1.电子束曝光机
电子束曝光系统的重要指标
最小束直径
加速电压
电子束流
扫描速度
扫描场大小
工作台移动精度
套准精度
场拼接精度
MEBES4700S
几种商用电子束曝光系统对比
化学放大抗蚀剂
抗蚀剂的重要参数
灵敏度
对比度
分辨率
抗刻蚀比
曝光宽容度
工艺宽容度
黏度、热流动性、膨胀效应
高对比度
侧壁更陡
工艺宽容度更大
分辨率更高（不一定总是）
对临近效应更不敏感
抗蚀剂的分辨率
抗蚀剂的厚度
PMMA抗蚀剂－多丙稀酸脂聚合物
多层抗蚀剂工艺
3.电子束曝光方式
2.矢量扫描&光栅扫描
工作方式1－高斯束、矢量扫描、固定工作台
工作方式2－高斯束、光栅扫描、移动工作台
4.电子散射与邻近效应
电子散射能量沉积分布
电子散射引起的邻近效应
怎样对抗邻近效应
5.电子束光刻的流程
6.电子束曝光技术的应用
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