光绘系统的技术指标体系说明(doc 6页)

光绘系统的技术指标体系说明目录：
1、定位精度：
2、分辨率 
3、光学系统的好坏 

 

光绘系统的技术指标体系说明内容简介：
    定位精度分为相对对位精度和绝对对位精度。 相对对位精度也就是重复对位精度，这是光绘机的关键指标。目前国内最 高水平可以达到0.005mm.它将影响光绘照相底版的重合度。    绝对对位精度是指光绘机所绘照相底版的尺寸与绝对尺寸的误差。如果该 误差是线性的，则可通过软件进行调整，这是光绘机的决定性指标。所谓“决 定性指标”指的是：如果这一指标无法达到要求，则该光绘机根本无法使用。它直接影响光绘照相底版与数控钻的重合度。
    分辨率的单位一般采用过dpi,即在一英寸长度内可以多少个点。例如2540 dpi,就是在一英寸长度内可以排放2540个点。  分辨率指标影响线条边缘的光滑程度和最小线宽及最小线间距。  分辨率越高线条边缘越光滑。  分辨率越高所能达到的最小线宽及最小线间距则越小。  例如1016 dpi的光绘机，其最小线宽和最小线间距为0.08mm.  而2540 dpi的光绘机，其最小线宽和最小线间距为0.03mm.  光学系统的好坏直接影响光绘照相底版的光学效果。  其影响以下几个方面：  a,光绘的光密度  b,光绘照相底版的反差效果   c,线条边缘的黑白变化的锋利度  d,最小线间距中间是否清晰  其检验方法为：  制作一排线条，使其间距为最小线间距。用放大镜观察线间是否有光晕。  特别注意：关于光绘机的硬件指标，用户中普遍存在着误区：认为分辨率是 最重要的指标，而定位精度是次要指标。

..............................