微电子工艺流程(PDF 44页）

一.微电子工艺概述
二.微电子工艺步骤介绍
1. 洁净室和清洗
2. 氧化和化学气相淀积
3. 光刻和腐蚀
4. 扩散和离子注入
5. 金属连接和平面化
三. 标准CMOS工艺流程
1、初始清洗
2、前置氧化
3、淀积氮化硅
4、P阱的形成
5、去除氮化硅
6、P阱离子注入
7、P阱退火及氧化层的形成
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