光刻基础工艺培训教材(PPT 49页)

光刻基础工艺培训
一、光刻工序的工艺目的及要求
二、光刻工序使用化学材料
三、光刻工艺流程
3.1受入
3.2前处理
3.3、光刻胶的涂敷及前烘
光刻胶
光刻胶的性能指标
3.4、对位曝光
对准法则
3.5显影及后烘
显影的后烘
3.6 显影检验
3.7刻蚀（亦称腐蚀）
3.8光刻胶的去除
3.9 腐蚀后检、去胶后检验
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